然而，由于歷史原因，我國在此領(lǐng)域長(zhǎng)期落后于并受制于西方發(fā)達(dá)國家；另外一方面，光學(xué)超材料、變革性光學(xué)等諸多顛覆性技術(shù)的出現(xiàn)，迫切需要發(fā)展專用的微納制造工具。

　　國家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”11月29日通過驗(yàn)收。該光刻機(jī)由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達(dá)到22納米，結(jié)合雙重曝光技術(shù)后，未來還可用于制造更高級(jí)別的芯片。

　　光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備，我國在這一領(lǐng)域長(zhǎng)期落后。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把母版上的精細(xì)圖形通過曝光轉(zhuǎn)移至硅片上，一般來說，光刻分辨力越高，加工的芯片集成度也就越高。但傳統(tǒng)光刻技術(shù)由于受到光學(xué)衍射效應(yīng)的影響，分辨力進(jìn)一步提高受到很大限制。

　　為獲得更高分辨力，傳統(tǒng)上采用縮短光波、增加成像系統(tǒng)數(shù)值孔徑等技術(shù)路徑來改進(jìn)光刻機(jī)，但技術(shù)難度極高，裝備成本也極高。

　　項(xiàng)目副總設(shè)計(jì)師胡松介紹，中科院光電所此次通過驗(yàn)收的表面等離子體超分辨光刻裝備，打破了傳統(tǒng)路線格局，形成一條全新的納米光學(xué)光刻技術(shù)路線，具有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，為超材料/超表面、第三代光學(xué)器件、廣義芯片等變革性領(lǐng)域的跨越式發(fā)展提供了制造工具。

　　據(jù)了解，這種超分辨光刻裝備制造的相關(guān)器件已在中國航天科技集團(tuán)公司第八研究院、電子科技大學(xué)、四川大學(xué)華西醫(yī)院、中科院微系統(tǒng)所等多家科研院所和高校的重大研究任務(wù)中得到應(yīng)用。